三星联手美企提升3纳米良率以赶超台积电

三星电子已与美国公司Silicon Frontline Technology扩大合作,提高半导体晶片在生产过程中的良率,希望超车劲敌台积电。据悉,三星电子先进制程良率低迷,自5纳米制程一直存在良率问题,随着4纳米和3纳米,情况变得更糟,据传三星3纳米解决方案制程自量产以来,良率不超过20%,量产进度陷入瓶颈。

0 条回复 A文章作者 M管理员
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